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NIE-3500(R)RIBE反應離子束刻蝕

NIE-3500(R)RIBE反應離子束刻蝕:可以用于光柵刻蝕,SiO2二氧化硅、Si 硅以及金屬等的深槽刻蝕。此外,還可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。系統(tǒng)可以兼容反應氣體以及非反應氣體,比如Ar,O2,CF4,Cl2等。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-04-28
  • 訪  問  量:3554
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產品詳情

RIBE反應離子束刻蝕

NIE-3500(R)RIBE反應離子束刻蝕產品概述:該系統(tǒng)為計算機全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優(yōu)勢。所有核心組件均為。

NIE-3500(R)RIBE反應離子束刻蝕產品特點:

  • 低成本
  • 離子束:高達2KV/10mA
  • 離子電流密度100-360uA/cm2
  • 離子束直徑:4",5",6"
  • 兼容反應及非反應氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)
  • 極限真空5x10-7Torr
  • 260l/s渦輪分子泵,串接500 l/min干泵
  • 14"不銹鋼或鋁質腔體
  • 水冷旋轉/傾斜樣品臺(NIE-3500)
  • 自動上下載片(NIE-3500)
  • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
  • 占地面積30"x30"

產品應用:

  • 表面清洗
  • 表面處理
  • 離子銑
  • 帶活性氣體的離子束刻蝕
  • 光柵刻蝕
  • SiO2,Si和金屬的深槽刻蝕

 

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