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那諾中國(guó)有限公司專(zhuān)注于為大中華區(qū)域（包括中國(guó)大陸、香港、澳門(mén)和中國(guó)臺(tái)灣）的高校、科研院所、企業(yè)研發(fā)與生產(chǎn)等企業(yè)機(jī)構(gòu)提供高性能、高性?xún)r(jià)比、定制化的薄膜工藝加工設(shè)備及科學(xué)分析檢測(cè)儀器。那諾中國(guó)提供美國(guó)那諾-馬斯特薄膜工藝加工設(shè)備（包含磁控濺射、熱蒸鍍、電子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、離子束、DRIE、晶圓兆聲清洗機(jī)等）。那諾中國(guó)提供英國(guó)KORE基于飛行時(shí)間的質(zhì)譜儀，包含飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀（TOF-SIMS）、質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)（PTR）質(zhì)譜儀、電子轟擊電離（EI）質(zhì)譜儀等。
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全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng)以其高效、精確、自動(dòng)化的特點(diǎn)，在半導(dǎo)體、光電子、MEMS等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步，其在精度、效率和智能化方面將進(jìn)一步提升，推動(dòng)更多高精密制造領(lǐng)域的技術(shù)發(fā)展。全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng)的基本工作流程：1.預(yù)處理與參數(shù)設(shè)定操作人員通過(guò)觸摸屏或計(jì)算機(jī)界面輸入刻蝕工藝所需的參數(shù)，如氣體流量、壓力、功率、刻蝕時(shí)間等。這些參數(shù)會(huì)直接影響到等離子體的產(chǎn)生與穩(wěn)定性，從而影響刻蝕效果。2.氣體流量與等離子體的調(diào)控系統(tǒng)會(huì)根據(jù)設(shè)定的參數(shù)自動(dòng)調(diào)節(jié)氣體流量與壓力，確保等離子...
2025-05-28晶圓清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造過(guò)程中至關(guān)重要的設(shè)備之一，主要用于清洗晶圓表面上的雜質(zhì)、污垢和化學(xué)殘留物，以確保晶圓表面的潔凈度和質(zhì)量。這些雜質(zhì)和污染物的存在可能會(huì)影響后續(xù)的光刻、蝕刻、沉積等工藝，進(jìn)而影響芯片的性能和可靠性。因此，晶圓清洗是半導(dǎo)體生產(chǎn)中一個(gè)關(guān)鍵的工藝步驟。晶圓清洗機(jī)的工作原理：1.超聲波清洗：利用超聲波的高頻振動(dòng)將晶圓表面上的污垢、污染物分散開(kāi)來(lái)。超聲波的作用可以有效去除微小的顆粒和化學(xué)殘留物。2.噴淋清洗：使用高壓的噴淋系統(tǒng)將化學(xué)溶液噴射到晶圓表面，幫助去除污染物。...
2025-04-28全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)是一種高效的薄膜沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體、光電顯示、太陽(yáng)能電池和傳感器等研究與產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)利用磁控濺射技術(shù)，在真空環(huán)境中將靶材中的原子或分子高效地沉積到基底上，從而形成所需的薄膜。全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)的工作原理：1.真空環(huán)境：先需要在真空室內(nèi)創(chuàng)建一個(gè)高真空環(huán)境，以減少氣體分子對(duì)濺射過(guò)程的干擾并提高沉積質(zhì)量。2.靶材準(zhǔn)備：將靶材（通常由金屬、合金或陶瓷材料組成）固定在系統(tǒng)的靶位上，靶材是薄膜的主要成分。3.等離子體生成：系統(tǒng)通過(guò)在真空室內(nèi)引入惰性...
2025-03-27全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)是一種用于薄膜沉積技術(shù)的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、光學(xué)薄膜、傳感器等領(lǐng)域。該系統(tǒng)利用高能離子束轟擊靶材，通過(guò)物質(zhì)濺射的方式，在基材表面沉積薄膜。全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)的基本原理：1.氣體離子化：在高真空環(huán)境中，惰性氣體（如氬氣）被導(dǎo)入腔體，施加高頻電壓形成等離子體，使氣體部分離子化。2.離子加速：離子被電場(chǎng)加速并朝向靶材運(yùn)動(dòng)。3.靶材濺射：高速運(yùn)動(dòng)的離子與靶材發(fā)生碰撞，使靶材表面原子獲得足夠的能量，從而逸出表面，形成濺射物質(zhì)。4.薄膜沉積：濺射出的原子在腔體...
2025-01-19磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，廣泛應(yīng)用于薄膜材料的制備。其基本原理是利用高能粒子轟擊靶材，導(dǎo)致靶材原子或分子逸出，并在基材表面沉積形成薄膜。該過(guò)程通常在真空環(huán)境中進(jìn)行，以確保沉積過(guò)程中的純凈和無(wú)污染。全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)的部分組成：1.真空腔體：作為整個(gè)濺射過(guò)程的核心部分，真空腔體配備有高效的抽真空系統(tǒng)，確保低壓環(huán)境。2.靶材和基材架：靶材通常采用高純度的金屬或合金，根據(jù)不同的沉積需求選擇；基材架則負(fù)責(zé)固定待涂覆的基材，確保在濺射過(guò)程中的穩(wěn)定性。3.磁場(chǎng)系統(tǒng)：...
2024-12-26飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜法（TOF-SIMS）是一種高度靈敏的表面分析技術(shù)，可揭示樣品頂部幾個(gè)原子層的質(zhì)譜數(shù)據(jù)。Kore很榮幸成為InnoviaFilms的TOF-SIMS供應(yīng)商，InnoviaFilms是一家材料科學(xué)公司，為包括標(biāo)簽、包裝以及錢(qián)幣在內(nèi)的各種產(chǎn)品生產(chǎn)基礎(chǔ)膜。InnoviaFilms與Kore接洽，要求研究其高度差異化的雙向拉伸聚丙烯（BOPP）薄膜的不同表面處理。Kore設(shè)計(jì)的SurfaceSeer儀器成為Kore后續(xù)TOF-SIMS儀器的基礎(chǔ)，并為Innovia...
2024-12-03推薦產(chǎn)品recommend
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